プラズマCVD装置
製品名：サムコ（株）製 PD-100ST
本装置は，材料ガス（テトラエトキシシラン：TEOS）をプラズマエネルギーにより分解することにより，各種基板上に酸化シリコン膜（絶縁膜）を作製する製膜装置です．微小機械や電子デバイスを作製する上で絶縁膜作製プロセスは必須であり，特に3次元構造を作製する場合，低温で堆積速度が速く，かつ種々な形状を有する基板への絶縁膜作製が要求されます．本装置は高速な製膜が可能（0.3μm/min以上）であり，各種構造の作製が可能となります。
PD-100ST